清洗用的有机溶剂
嘉智信诺申请一种溶剂型易清洁有机硅改性聚合物及其制备方法和应用...金融界2024 年8 月11 日消息,天眼查知识产权信息显示,安徽嘉智信诺化工股份有限公司申请一项名为“一种溶剂型易清洁有机硅改性聚合物及其制备方法和应用“公开号CN202410566398.9,申请日期为2024 年5 月。专利摘要显示,本发明公开了一种溶剂型易清洁有机硅改性聚合物还有呢?
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创志生命科技(江苏)有限公司取得一种去有机溶剂的卫生级设备专利,...有限公司取得一项名为“一种去有机溶剂的卫生级设备”的专利,授权公告号CN 221752299 U,申请日期为2023年10月。专利摘要显示,本实用新型公开了一种去有机溶剂的卫生级设备,包括有机溶剂回收组件、清洗灭菌组件卧式蒸发器的腔体、搅拌组件和真空口组;真空口组包括一左一是什么。
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如何清洁和维护微波消解仪?微波消解仪的清洁与维护指南(专业版) 一、日常清洁流程消解罐清洗立即处理:使用后趁温热(60-80℃)用超纯水冲洗深度清洗: 请点击输入图片描述(最多18字) 1% HNO₃浸泡-超纯水超声10min-120℃烘箱干燥禁忌: × 金属刷擦洗× 丙酮等有机溶剂× 骤冷骤热腔体清洁有机物:异丙还有呢?
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安集科技获得发明专利授权:“一种去除光刻胶残留物的清洗液”专利名为“一种去除光刻胶残留物的清洗液”,专利申请号为CN201911319064.7,授权日为2025年3月4日。专利摘要:本发明提供一种去除光刻胶残留物的清洗液,包含:季胺氢氧化物、醇胺、水、消泡剂、以及有机溶剂。本申请的清洗液加入消泡剂后既可以高效去除晶圆上的光刻胶残留等会说。
鼎龙股份申请化学机械抛光后清洗相关专利,改善铜的 CMP 过程后清洗...湖北鼎龙控股股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光后清洗组合物及半导体器件基板的清洗方法“公开号CN202410523991.5,申请日期为2024 年4 月。专利摘要显示,本发明涉及化学机械抛光后清洗组合物,包含:pH 调节剂、季铵碱、润湿剂、有机氮氧螯合剂、有机溶剂;所述有说完了。
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杭州研趣申请一种锂离子电池氧空位的测试方法专利,提高测试锂离子...使用有机溶剂对正极极片进行浸泡、清洗,然后晾干,得到极片样品;(2)将极片样品放入仪器样品仓内,设定仪器参数,开始扫描测试,得到电子共振波谱图;(3)对步骤(2)得到的电子共振波谱图进行拟合处理,得到拟合谱图,根据公式:计算得到拟合谱图中吸收峰的g因子,再通过与标准值比较,确定说完了。
上海银浆申请抗氧化导电铜浆及其制备方法专利,提高了导电铜浆的抗...铜粉处理:铜粉通过酸液进行清洗,烘干后待用;步骤2、抗氧化铜粉制备:将第一热塑性树脂加热溶解于第一有机溶剂中形成包覆液,将上述烘干后的铜粉加入至所述包覆液中,蒸发去除第一有机溶剂后得到抗氧化铜粉;步骤3、将上述制备得到的抗氧化铜粉与热固性树脂、第二热塑性树脂、辅等我继续说。
注意!这8种物品不能用酒精擦,一擦就坏,很多人都做错平时在做家务的时候,很多朋友都会使用酒精, 大家觉得使用酒精擦拭过后的物品会更加的干净,而且还能够起到消毒的作用。虽说酒精有着一定消毒的作用,但其本身也是一种有机溶剂,同样也存在着一定的腐蚀性, 所以提醒大家注意以下这8种物品千万不要用酒精擦,一擦就坏,很多人都做等我继续说。
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安徽开林新材料申请一种自清洁涂料及其制备方法专利,提高涂层整体...包括以下原料:有机氟硅改性树脂、B 型纳米二氧化硅、流平剂、消泡剂、溶剂;其制备方法包括以下步骤:(1)将溶剂、流平剂和消泡剂加入分散机中,然后再加入有机氟硅改性树脂并充分混合,得到混合料;(2)向混合料中加入B 型纳米二氧化硅,搅拌均匀,制得自清洁涂料。本发明先将大粒径等会说。
天啊!原来羽绒服不适合干洗!这样清洗,才更保暖!回家记得告诉爸妈干洗的原理是利用有机溶剂溶解服装表面的污渍,而后让有机溶剂挥发,就能实现干进干出的效果。较为常用的干洗剂是四氯乙烯,它清洁力强,在等我继续说。 1 有部分洗衣机具有羽绒服清洗模式,是个不错的选择。如果洗衣机没有对应模式,则可以选择轻柔档位,或者选择手洗。切记不要粗暴地用&ld等我继续说。
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