如何制作一个自己的app软件呢

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晶合集成获得发明专利授权:“一种双深度沟槽的制作方法”证券之星消息,根据天眼查APP数据显示晶合集成(688249)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种双深度沟槽的制作方法”,专利申请号为CN202510429961.2,授权日为2025年6月17日。专利摘要:本发明公开了一种双深度沟槽的制作方法,属于半导体集成电路制造技术领域。该方法首后面会介绍。

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